产品中心

钛靶

钛靶

钛溅射靶;化学符号:Ti;规格:平面靶,旋转靶,多弧形靶;绑定介质:铟;用途:半导体、超高真空装置中的吸气材料、医学生物、功能薄膜

钛溅射靶;化学符号:Ti;规格:平面靶,旋转靶,多弧形靶;绑定介质:铟;用途:半导体、超高真空装置中的吸气材料、医学生物、功能薄膜

纯度:3N,4N,5N;熔点:1668℃;沸点:3260℃;密度:4.5g/cm3(20℃); 外观:银白色;特点:有延展性、密度小强度高、化学及物理性质稳定、耐高温、耐腐蚀

分分快三 - 首页