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铬靶

铬靶

铬溅射靶;化学符号:Cr; 规格:平面靶,旋转靶;绑定介质:铟;用途:工业级镀膜、微电子、平面显示器、存储器件、实验或研究用靶材、芯片、光电、军用、装饰镀、功能薄膜

铬溅射靶;化学符号:Cr; 规格:平面靶,旋转靶;绑定介质:铟;用途:工业级镀膜、微电子、平面显示器、存储器件、实验或研究用靶材、芯片、光电、军用、装饰镀、功能薄膜
纯度:3N,4N;熔点:1857℃;沸点:2672℃;密度:7.19g/cm3(20℃);外观:银灰色;特点:铬硬而脆、是硬度最大的金属、铬具有很高的耐腐蚀性
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